產品中心
PRODUCT CENTER
革命性超低能量微束離子束制樣設備，其采用惰性氣體為氣源，能夠有效去除非晶層及離子注入問題，具備離子成像功能，能夠高精度定位去除非晶層，是FIB制備樣品后續精修絕佳制樣工具。
當代TEM對于樣品的要求
針對當下很多先進功能材料研究來說，透射電鏡是最佳獲取材料微觀結構與物理特性的分析手段。
伴隨著納米科技研究的進步以及半導體制程的持續減小，制備出非常薄、無任何人為假象的樣品變得越來越關鍵。這些需求對于當下具備亞埃級分辨率帶球差矯正器及單色器的透射電鏡來說更為關鍵。
NanoMill微束定點離子減薄儀采用極低能量同時經過聚焦的氬離子束，來制備超高質量的透射電鏡樣品。
• 超低能量的惰性氣體離子源
• 具備掃描功能的聚焦離子束，最小離子束斑1微米
• 去除非晶層的同時 ，不產生任何二次沉積效應
• 特別適合FIB制備的樣品的非晶層去除
• 能夠增強傳統離子減薄制備的樣品的成像質量
• 可在室溫或低溫下進行制樣修復，最低溫度可到-170 ℃ 以下
• 快速換樣設計，滿足高通量樣品制備的需求
• 計算機控制，所有操作均可可程序化設定，使用方便
• 無污染無油真空系統
標題為Main的頁面是用來程序化控制及實時顯示NanoMill操作參數和狀態的頁面。紅色方框的位置就是用來定位感興趣區域，該區域為FIB制備好的樣品粘到 Omniprobe ™ 銅網上的一個手指上的位置圖
80kV下原子分辨率成像，樣品厚度約7nm，
圖片來源：J. Mayer and M. Luysberg, Ernst Ruska Centre, Juelich, Germany and C. Kisielowski,Lawrence Berkeley Laboratory (NCEM).
黃色EDS結果為FIB制樣后采集，紅色曲線為NanoMill修復之后的EDS結果，可以發現明顯去除了Ga離子注入的問題
Model 1040 NanoMill ® 技術規格
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離子源 |
燈絲型離子源結合電磁透鏡系統 加速電壓范圍50 eV到2 keV),連續可調 最大束流密度1 mA/cm 2 束斑直接 1 µm @2,000 eV |
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樣品臺 |
具備預換樣設計，10s內可完成換樣研磨角度范圍 −12° 到 +30° |
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真空系統 |
分子泵加無油機械泵組合 系統基本真空3 x 10 -7 mbar 操作時真空1 x 10 -4 mbar |
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氣源 |
采用質量流量計自動控制設計 最大氣流 2 sccm 99.999%高純氬氣 |
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樣品對位 |
離子束可以對準定點位置或在一個選定的區域進行進行精細修復 |
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人機界面 |
菜單驅動設計 修復過程可程序化自動控制 |
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樣品冷卻 |
帶自動控溫液氮冷臺系統 樣品臺最低溫度可達 –170 °C 系統冷卻時間＜20 分鐘 樣品冷卻時間＜5 分鐘 |
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成像 |
配備3mm視野范圍的二次電子探頭 E-T探頭 樣品圖像信息顯示到控制觸屏界面 |
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尺寸重量 |
991mm(W) x1,474 mm(H)x788mm(D) 230.5 kg |
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電源 |
220 V AC, 50/60 Hz, 1,000 W |
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保修期 |
一年 |
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| SrTiO3 <100>球差矯正HAADF STEM 圖像 | 預換樣室打開狀態示意圖 |
