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離子減薄技術簡介
離子減薄技術通常采用惰性氣體氬，通過將氬氣離子化后，在電場加速作用下轟擊到樣品表面，利用動量轉移的方式進行可控速率條件下，物理濺射轟擊的方式對樣品進行減薄，最終實現樣品能夠達到透射電鏡所需的電子束穿透厚度。
TEM Mill 作為采用尖端技術制造的精密離子研磨及拋光系統，提供可靠、高性能的樣品制備能力，能夠為透射電鏡制備滿足電子束穿透的大面積薄區樣品，同時具備緊湊、精確以及高穩定性的優點。
主要性能特點：
• 兩支獨立可調電磁聚焦離子槍
• 同時具備高能量(快速拋光)和低能量(精細修復)
• 超寬加速電壓范圍：100eV 到 10kV，不同加速電壓下，離子束束斑均保持最細最優束斑狀態
• 每支離子槍均配備對應法拉第杯進行離子束直接探測
• 采用可調節10英寸觸屏控制系統，人機界面友好，操作簡潔
• 自動獨立氣源控制
• 減薄角度范圍：-15°到 +10°連續可調
• 樣品載臺X-Y可調，可根據需要調整樣品減薄位置
• 具備原位實時觀察及記錄減薄過程功能
• 樣品可360°連續旋轉或搖擺，離子束自動避讓樣品夾
• 可通過時間、溫度以及透光性自動停止
• 可選液氮冷臺配置，去除熱效應對樣品的損傷
• 可選真空或惰性氣體轉移裝置，隔絕樣品與水氧接觸
常規300KV TEM/STEM拍攝，大面積均勻厚度亞埃尺度成像
Model 1051 TEM Mill 技術規格
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離子源 |
兩支TrueFocus聚焦離子源 可變能量范圍100 eV到10 keV ，最大束流 密度可達10 mA/cm² 減薄角度 −15° 到 +10?連續可調 可選擇單槍或雙槍工作模式 兩支離子槍能量可獨立調節 可選手動或自動馬達離子槍 離子束角度、束斑大小均可調節 |
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樣品夾 |
絕佳的裝樣設計及導熱性能 獨特裝載設計，能夠滿足至零度單面/雙面 減薄均無陰影 可選帶X-Y調節裝樣樣品夾 |
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樣品臺 |
樣品尺寸: 3 mm 直徑 x 250 µm厚度360°旋轉且轉速可調，同時樣品臺可搖擺磁編碼器提供絕對定位精度 |
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液氮冷臺 |
可選液氮冷臺設計，冷卻時間分為3-5小時即18小時以上兩種 具備自動程序化控溫設計 |
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自動終止 |
可根據時間、溫度或透光性自動終止減薄 |
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真空系統 |
分子泵加多級無油隔膜泵配有款量程冷陰極規 |
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真空轉移 |
可選真空轉移或惰性氣體保護下轉移升級 |
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氣源 |
99.999%高純氬氣，使用壓力 15 psi配備精確氣體質量流量計 |
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人機界面 |
10英寸觸屏設計，可實現配方編程控制可選遠程燈光指示器 |
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尺寸/重量 |
127cm(W)X 77cm(H)X 102cm(D)，73kg |
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電源 |
220/240 VAC, 50/60 Hz, 720 W |
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保修期 |
一年 |
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| Load Lock快速換樣艙設計 |
SiTiO3球差電鏡成像 數據來源：東京大 學工程創新研究所 |
滬公網安備 31011702008509號
