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TEM Mill 精密離子減薄儀

型號:1051

兩支獨立可調電磁聚焦離子槍
同時具備高能量(快速拋光)和低能量(精細修復)
超寬加速電壓范圍:100eV 到10kV,不同加速電壓下,離子束束斑均保 持最細最優束斑狀態
每支離子槍均配備對應法拉第杯進行離子束直接探測
采用可調節10英寸觸屏控制系統,人機界面友好,操作簡潔
減薄角度范圍:-15°到 10°連續可調
樣品載臺X-Y 可調,可根據需要調整樣品減薄位置
具備原位實時觀察及記錄減薄過程功能
樣品可360°連續旋轉或搖擺,離子束自動避讓樣品夾
可選液氮冷臺配置,去除熱效應對樣品的損傷
可選真空或惰性氣體轉移裝置,隔絕樣品與水氧接觸
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離子減薄技術簡介

離子減薄技術通常采用惰性氣體氬,通過將氬氣離子化后,在電場加速作用下轟擊到樣品表面,利用動量轉移的方式進行可控速率條件下,物理濺射轟擊的方式對樣品進行減薄,最終實現樣品能夠達到透射電鏡所需的電子束穿透厚度。

TEM Mill 作為采用尖端技術制造的精密離子研磨及拋光系統,提供可靠、高性能的樣品制備能力,能夠為透射電鏡制備滿足電子束穿透的大面積薄區樣品,同時具備緊湊、精確以及高穩定性的優點。

 

主要性能特點:

• 兩支獨立可調電磁聚焦離子槍

• 同時具備高能量(快速拋光)和低能量(精細修復)

• 超寬加速電壓范圍:100eV 到 10kV,不同加速電壓下,離子束束斑均保持最細最優束斑狀態

• 每支離子槍均配備對應法拉第杯進行離子束直接探測

• 采用可調節10英寸觸屏控制系統,人機界面友好,操作簡潔

• 自動獨立氣源控制

• 減薄角度范圍:-15°到 +10°連續可調

• 樣品載臺X-Y可調,可根據需要調整樣品減薄位置

• 具備原位實時觀察及記錄減薄過程功能

• 樣品可360°連續旋轉或搖擺,離子束自動避讓樣品夾

• 可通過時間、溫度以及透光性自動停止

• 可選液氮冷臺配置,去除熱效應對樣品的損傷

• 可選真空或惰性氣體轉移裝置,隔絕樣品與水氧接觸

 

常規300KV TEM/STEM拍攝,大面積均勻厚度亞埃尺度成像

 

Model 1051 TEM Mill 技術規格

離子源

兩支TrueFocus聚焦離子源

可變能量范圍100 eV到10 keV ,最大束流

密度可達10 mA/cm²

減薄角度 −15° 到 +10?連續可調

可選擇單槍或雙槍工作模式

兩支離子槍能量可獨立調節

可選手動或自動馬達離子槍

離子束角度、束斑大小均可調節

樣品夾

絕佳的裝樣設計及導熱性能

獨特裝載設計,能夠滿足至零度單面/雙面

減薄均無陰影

可選帶X-Y調節裝樣樣品夾

樣品臺

樣品尺寸: 3 mm 直徑 x 250 µm厚度360°旋轉且轉速可調,同時樣品臺可搖擺磁編碼器提供絕對定位精度

液氮冷臺

可選液氮冷臺設計,冷卻時間分為3-5小時即18小時以上兩種

具備自動程序化控溫設計

自動終止

可根據時間、溫度或透光性自動終止減薄

真空系統

分子泵加多級無油隔膜泵配有款量程冷陰極規

真空轉移

可選真空轉移或惰性氣體保護下轉移升級

氣源

99.999%高純氬氣,使用壓力 15 psi配備精確氣體質量流量計

人機界面

10英寸觸屏設計,可實現配方編程控制可選遠程燈光指示器

尺寸/重量

127cm(W)X 77cm(H)X 102cm(D),73kg

電源

220/240 VAC, 50/60 Hz, 720 W

保修期

一年

 

Load Lock快速換樣艙設計

SiTiO3球差電鏡成像

數據來源:東京大 學工程創新研究所

應用更新中...
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